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時間：2016-03-25 所屬期刊：經濟中文核心期刊
電子工業專用設備雜志社簡介 《電子工業專用設備》本刊主要面對國內外從事電子專用設備研究、設計、制造及應用領域的科學工作者、工程技術人員、大專院校師生及管理干部等。其宗旨是：堅持四項基本原則、貫徹雙百方針，報導國內外電子專用設備在科研、生產中
電子工業專用設備雜志社簡介
《電子工業專用設備》本刊主要面對國內外從事電子專用設備研究、設計、制造及應用領域的科學工作者、工程技術人員、大專院校師生及管理干部等。其宗旨是：堅持四項基本原則、貫徹“雙百”方針，報導國內外電子專用設備在科研、生產中具有先進水平的科研成果，學術動態等，為促進學術與技術交流和提高我國電子專用設備科研生產水平服務，它是我國電子專用設備行業創刊最早、且唯一全面報導各類電子專用設備的刊物，在國內外影響日益擴大，讀者遍布全國。
《電子工業專用設備》(月刊)創刊于1971年，是由中國信息產業部主管,中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦, 中國電子專用設備工業協會會刊;是業內最具權威的國內外公開發行的國家級刊物。是目前國內電子專用設備領域唯一獲正規出版發行的權威專業刊物，多年來為推動我國電子專用設備的發展發揮了極其重要的作用。榮獲2001~2002年度標準化規范化部級獎、獲2003~2004年度出版質量部級獎，中國電子科技文摘收錄期刊。
電子工業專用設備雜志欄目設置
趨勢與展望、專題報道、IC前沿制程、封裝與測試、行業快訊、新技術應用、企業介紹
電子工業專用設備雜志榮譽
萬方收錄(中)
上海圖書館館藏
國家圖書館館藏
知網收錄(中)
統計源核心期刊(中國科技論文核心期刊)
維普收錄(中)
Caj-cd規范獲獎期刊
電子工業專用設備雜志最新目錄
化學機械拋光對硅片表面質量影響的研究 楊玉梅;云娜
(25)有機半導體材料性能研究與應用前景 周高還
(28)CMP設備承載臺關鍵技術研究 姜家宏;王廣峰;李偉;王錚
(32)CMP設備兆聲清洗原理及應用 史霄;郭春華;楊師;熊朋
(36)鍺拋光片清洗工藝研究 郭亞坤;陳晨;田原;范紅娜;王云彪
(40)超聲波清洗在電鍍前處理中的應用及選型 郝鵬飛;杜斌
(43)接觸式臺階測量儀常見故障的調修 韓志國;李鎖印;趙革艷;趙新宇
(47)一種簡易有效的去除PCBA工藝邊工裝 鮮飛;王鵬賀;易亞軍;胡少云
(50)半導體專用設備的電氣控制柜設計研究 趙立華;任曉慶;楊曉靜;楊松濤
(56)中國列前沿技術全球三強有望擺脫受制于人困局
(57)2014～2020年先進封裝營收預測
(57)2015年1—9月電子信息制造業運行情況
電子工業專用設備雜志論文
鍺拋光片清洗工藝研究
摘 要：采用紫外線/臭氧技術氧化鍺拋光片表面,取代傳統的H2O2氧化工藝,之后使用鹽酸稀溶液清洗.研究發現當采用波長為253.7 nm和184.9 nm的紫外線光源與臭氧同時作用,并在盡可能靠近鍺拋光片表面時,經過30s的反應時間即可實現對鍺拋光片的最佳氧化效果.利用霧值檢測對鍺拋光片表面質量進行評價,當鍺拋光片經過鹽酸：H2O=1：50的溶液處理60 s后,可有效地去除拋光片表面的鍺氧化物.
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